© 1990-2020 ООО "ПЛАЗМА-ТЕХ". Сайт создан самостоятельно.

Российская Федерация,г.Москва, Смирновская улица, дом 4, стр.2. 8(495)362-05-81 www.plazmateh.ru

СИСТЕМЫ ПИТАНИЯ

Основная область применения - в составе вакуумно-технологического оборудования для обеспечения стабильных и управляемых процессов нанесения функциональных покрытий, в особенности диэлектрических и нанокомпозитных.

Системы питания выполняются как одноканальными, так и многоканальными, могут иметь гальванически изолированные выходы с отрицательной полярностью выходных напряжений, допускающие их «переполюсовку».

Типовое применение систем питания «магнетронов напыления» и «потенциала смещения» на примере их использования в установках магнетронного напыления функциональных нанокомпозитных покрытий УНИП-500 (700, 900) фирмы «Элан-Практик» (www.elanpraktik.ru

Упрощенно, схема подключения ИВЭ выглядит следующим образом: 

Схема подключения источника питания к УВН

Управление режимами работы всех ИВЭ осуществляется от ЦПЭВМ установки. 


Питание магнетрона М1 осуществляется однополярным импульсным напряжением с частой до 40 кГц при средней мощности 12 кВт. Питание магнетронов М2 и М3, образующих дуальную несимметричную магнетронную распылительную систему, осуществляется знакопеременным импульсным напряжением с частотой до 40 кГц при средней мощности до 18кВт на каждый их них. Поджиг разряда М1 производится от модуля вольтдобавки, входящего в блок дугозащиты и частотной коммутации «ИВЭ190-04.6», а М2 и М3 – от специального блока поджига «ИВЭ190-08».

На планетарный механизм с изделиями подается «потенциал смещения» однополярного постоянного или импульсного напряжения с частотой до 40 кГц и уровнем потенциала от -50 В до – 1200 В в зависимости от режима техпроцесса. 


Применение несимметричной дуальной системы питания позволяет использовать различные мишени в магнетронах М2 и М3 или с разной выработкой и оптимальным образом подобрать разрядные характеристики активных периодов распыления М2 и М3 по отношению к каждому из них. Наличие быстродействующей дугозащиты и принудительной частотной коммутации во всех «разрядных» цепях в совокупности с оптимальным централизованным заданием разрядных напряжений и токов, а также стабилизированное рабочее давление и расход реактивных газов обеспечивает бездефектный и повторяемый процесс нанесения сложных функциональных покрытий.

Схема подключения источника питания к УВН